上海镨赢真空科技有限公司成立于2005年，专注于等离子体工艺下纳米薄膜制备领域。主营产品包括:旋转阴极、平面阴极、电源及等离子体源(ICP、CCP)。公司自2013年开始投资设计、制造等离子体电源；自2017年开始投资设计、制造旋转阴极和磁棒。

（一）离子源

阳极层离子源

• 美国GPI专利技术,国内生产。
• 独特磁场技术可大量减少自污染问题（本体金属不接触离子体）。
• 400-2500V束流模式。
• 维保方便，无高额易损件。
• 支持尺寸定制。

德国CCR ICP 射频离子源

• 在后氧化溅射工艺中，可从根源杜绝靶中毒，将镀膜速度提升3~5倍。

• 每层原子都能充分参与反应，成膜质量更高。
• 无需拼接，条形离子源单个尺寸可达2m以上，均匀性更高。
• 超过85%的射频传输效率，离化率可达到90%以上。
• 基片无温升效应，几乎没有热量损耗。
• 无需配备中和器。

• 适合大尺寸离子束刻蚀和溅射。
• 无需石英罩。
• 无需配备中和器。
• 离子能量最高可达2000 eV。
• 离子电流最大可达3 mA/cm2。
• QUATRON-L最长可以做到4000 mm。

（二）磁控溅射阴极

旋转阴极

• 高均匀性，高利用率的磁棒：进口品牌技术，本地化制造与生产。

• 筛选工序严格，进口设备检测，磁棒均匀性≤1%。

• 靶材利用率高达80%，用户处实测最佳85%。最大限度地减少了双靶溅射对角[cross-corner effect]效应，有效避免靶材端部刻蚀严重的问题，并在基片上产生更宽的“均匀区”。

平面阴极

• 多种磁场可选。

• 磁场平衡度在线可调设计。

• 磁场强度在线可调设计。

• 适合射频高功率密度设计。

圆形阴极

• 设计紧凑，靶头尺寸业界最小。

• 阴极内部集成进气系统。

• 独特的电气接头设计：可兼容直流，射频和Hipims。

• 多种磁场可选。

• 全表面磁场扫描设计。

（三）电源

德国Melec多功能高能脉冲电源

• 0~25/50kHz脉冲频率范围可调。
• 脉冲导通时间5μs~16ms。
• 脉冲开关时间5μs~32ms。
• 单个脉冲周期最多可实现8个脉冲输出。

德国ADL直流电源

• 全自动电弧处理技术，安全可靠，操作简单。
• 多种通讯接口，易于实现系统集成。

中频磁控溅射电源（本地制造）

• 方波/正弦波输出，抑弧及输出性能优异，效率更高。
• 输出功率：10~120KW。
• 额定输出电压：900V。
• 额定输出电流：50~300A。

（四）Optix: 真空检测系统

• 无需差压泵。
• 可实现工艺全程监控。
• 可实现非氦气的工业检漏。
• 工作压力范围:100Pa到10^-4Pa。
  
  

（五）Speedflo:闭式循环气体检测系统

（8通道控制器）

（2通道控制器）

• 具有多种监测方式及控制方式。
• 工作压力范围宽（10^-4Pa到50Pa），满足不同工艺需求。
• 具有动态仿真功能。
• 具有自动调整工艺参数的功能。

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