应用场景：

利用离子源进行表面处理；真空镀膜前清洗或镀膜过程辅助沉积 ；半导体制造；新能源与医疗；多元化的研究和产品运用。

主要特点：

• 具有效率高、运行稳定等优点，电源效率≥90%；

• 提升气体离化率及活化度，与金属离子高效结合；

• 电压电流调整范围大，稳定性高，调节精度≤1%；

• 强大的抑弧功能，有效抑制异常放电。