应用场景：

双极性对称磁控溅射靶材、光学镀膜、半导体工艺、太阳能电池与新能源、机械加工与硬质涂层、生物医疗、手机外壳、触摸屏、显示器、钟表、3C等。

主要特点：

• 具备普通中频电源所有功能；

• 镀膜质量及均匀性均有所上升；

• 输出正弦波畸变率<1%，减少高频电磁干扰，提升等离子体均匀性；

• 无脉冲尖峰，避免靶材局部过热，延长靶材寿命 20%-25%；

• 平衡靶材溅射速率，延长生产周期，节省靶材成本。还可以实现共溅射功能，溅射不同靶材；

• 超宽的阻抗匹配范围，适合更多种类靶材，工艺窗口更宽；

• 全球最领先半导体级抑弧性能；

• 精确调节功率、占空比、电压和电流，调节精度≤1%。