应用场景：

双极性对称磁控溅射靶材、光学镀膜、半导体工艺、太阳能电池与新能源、机械加工与硬质涂层、生物医疗、手机外壳、触摸屏、显示器、钟表、3C等。

主要特点：

• 增加离化率，膜层致密、光洁度较好；

• 强大的抑弧功能；

• 有效抑制靶面异常放电，响应时间＜500ns；

• 精确调节功率、占空比、电压和电流，调节精度≤1%；

• 可靠性高，电源效率≥90%。