高均匀性，高利用率的磁棒：进口品牌技术，本地化制造与生产。

筛选工序严格，进口设备检测，磁棒均匀性≤1%。

靶材利用率高达80%，用户处实测最佳85%。最大限度地减少了双靶溅射对角[cross-corner effect]效应，有效避免靶材端部刻蚀严重的问题，并在基片上产生更宽的“均匀区”。