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EVA-901 是基于日本+台湾设备技术基础之上开发出来的一款新型镀膜设备，可以实现全天候全自动镀膜，本设备的特征如下：

1)可以同时搭载双枪

2)可以同时搭载电子枪E-Beam+RH热阻蒸发

3)坩埚可以选配单穴　四穴　六穴　八穴　多穴位

4)适用于公自转，行星转

5)可以对应金属，非金属材料，ITO

6)90%部件都是进口件

7)搭载基片尺寸2-8寸

8)极限真空可以达到3.0E-5Pa